| 发明名称 | 光信息记录介质及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光信息记录介质，在形成磁道间距为200～400nm、深度为10～150nm的槽的衬底上依次设置光反射层、记录层和保护层，并且从所述保护层侧照射波长小于500nm的激光而进行记录和再生，其特征在于，所述光反射层是由铝或铝合金构成。所述光信息记录介质，通过使用由铝或铝合金构成的光反射层，降低了成本的同时具有优异的记录特性。 | ||
| 申请公布号 | CN100394497C | 申请公布日期 | 2008.06.11 |
| 申请号 | CN03107069.8 | 申请日期 | 2003.03.05 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 石田寿男;宇佐美由久 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种光信息记录介质，在形成有信息道间距200～400nm、槽深度10～150nm的槽的衬底上，依次设置：反射层、记录层和保护层，并从该保护层侧照射波长500nm以下的激光而进行记录和再生，其特征在于，所述反射层含有铝或铝合金，并以Ar流量为4～10sccm、功率为2～6kW、成膜时间1～5秒的溅射条件形成。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||