光刻设备、器件制造方法和计算机程序产品

摘要

在光刻设备中，修正的辐射过程采用所设置的照射方式实现，以便对其光瞳平面附近的投影系统的元件的所选择的部分进行加热，所述部分在生产曝光过程中相对地未进行加热。所述修正的辐射过程目的是提高加热投影系统的光学元件的均匀性和/或降低相位梯度。

主权项

1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束，以便以第一或第二照射方式选择性地照射图案形成装置；支撑结构，被构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置用于将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，被构造用于保持衬底；投影系统，被配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括多个光学元件并具有光瞳平面，所述光学元件中的至少一个位于光瞳平面上或光瞳平面附近；以及控制系统，被配置用于控制照射系统、支撑结构和衬底台，以当在图案形成装置上的图案和在衬底台上的衬底处于辐射束的辐射路径中时选择第一照射方式、从而进行生产曝光，而在衬底没有处于辐射束的辐射路径中的时间期间选择第二照射方式、从而进行修正辐射工艺，其中，在设备的使用中，在图案形成装置处的辐射的角分布是使得图案化的辐射束的强度大致被包括在第一照射方式下的至少一个光学元件的横截面区域的第一部分内和在第二照射方式下的至少一个光学元件的横截面区域的第二部分内，所述第一和第二部分是大致不重叠的，第一和第二部分的组合不包括至少一个光学元件的整个横截面区域。