发明名称 光掩膜的检查装置和方法、制造方法和图案转录方法
摘要 在本发明的光掩膜的检查装置中,由光掩膜保持部(3a)保持光掩膜(3),经照明光学系统(2)向光掩膜(3)照射来自光源(1)的规定波长的光束,经物镜系统(4),由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。使照明光学系统(2)、物镜系统(4)和摄像元件(5)的光轴一致,沿光轴方向彼此独立移动操作物镜系统(4)和摄像元件(5),摄像光掩膜(3)的像。
申请公布号 CN101196681A 申请公布日期 2008.06.11
申请号 CN200710196458.9 申请日期 2007.12.05
申请人 HOYA株式会社 发明人 吉田光一郎;平野照雅
分类号 G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/66(2006.01) 主分类号 G03F1/00(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种光掩膜的检查装置,其特征在于,具备:保持作为被检体的光掩膜的掩膜保持部件;发出规定波长的光束的光源;照明光学系统,引导来自所述光源的光束,向由所述掩膜保持部件保持的光掩膜照射该光束;物镜系统,入射被照射到所述光掩膜、并经过了该光掩膜的所述光束;摄像部件,接收经过了所述物镜系统的光束,摄像所述光掩膜的像;支持部件,分别支持所述照明光学系统、所述物镜系统和所述摄像部件;移动操作部件,移动操作所述各个支持部件;和控制部件,控制所述移动操作部件,所述控制部件通过控制所述移动操作部件,在与由所述掩膜保持部件保持的光掩膜的主平面平行的面内,移动操作所述照明光学系统、所述物镜系统和所述摄像部件,在使它们的光轴一致的状态下,使位于规定位置,并且,在光轴方向上位置调整所述物镜系统和所述摄像部件的至少一个。
地址 日本东京都