摘要 |
INTERFEROMêTRO COM UMA DISPOSIçãO SIMéTRICA PARA A MEDIçãO DE UM OBJETO DE MEDIçãO. A presente invenção refere-se a um dispositivo de medição interferométrico (1) para a medição de um abjeto de medição (5), em particular, para a medição de espessura do objeto de medição (5). Neste caso, está prevista uma objetiva especial (45) com uma disposição simétrica (40) que é constituída de, pelo menos, um primeiro espelho de desvio (60) e um segundo espelho de desvio (65), e esses espelhos estão dispostos, de tal modo que, os raios do objeto (25) que incidem sobre o primeiro (60) ou sobre o segundo espelho de desvio (65) são orientados para um primeiro (70) ou segundo lado (75), paralelo a este, do objeto de medição (5) a ser medido em um primeiro (80) ou segundo trajeto do raio (85) antiparalelos um ao outro. A disposição simétrica (40) apresenta, adicionalmente, pelo menos, um primeiro espelho de posição (70) para a reprodução da posição do abjeto de medição (5) a ser medido em relação ao primeiro (60) e/ou ao segundo espelho de desvio (65).
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