| 发明名称 | 物理气相沉积工艺及其设备 | ||
| 摘要 | 一种物理气相沉积设备，此沉积设备由一反应室与一电磁铁磁控装置所构成，此电磁铁磁控装置配置于反应室的外部上方。其中当于进行物理气相沉积工艺时，临场反转此电磁铁磁控装置的磁极，因此可以解决开口侧壁的不对称沉积的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN100392146C | 申请公布日期 | 2008.06.04 |
| 申请号 | CN200410068273.6 | 申请日期 | 2004.08.27 |
| 申请人 | 茂德科技股份有限公司 | 发明人 | 陈泰原;梅伦 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01) | 主分类号 | C23C14/35(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种物理气相沉积设备，包括：一反应室；以及一电磁铁磁控装置，配置于该反应室的外部上方，其中当于进行一物理气相沉积工艺时，临场反转该电磁铁磁控装置的磁极。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园 | ||