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发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING ISO LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100835406(B1) 申请公布日期 2008.06.04
申请号 KR20060110467 申请日期 2006.11.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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