发明名称 |
一种制备大面积铁电薄膜的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种制备均匀大面积铁电薄膜的方法,属于铁电薄膜制备领域。其特征在于采用化学匀胶成膜的方法制备铁电薄膜。关键是改进了匀胶台吸盘的气路槽和优化工艺参数。设计的气路槽宽减小至0.8-1.5mm,槽深减至0.5-0.8mm,增加了槽的数量由圆环状改为发射状,且工艺参数优化,与原来较深的圆槽相比,匀胶后的膜颜色均匀,没有衍射环,所制备的4英寸PZT铁电薄膜厚度均匀性和性能均匀性偏差分别为2.5%和3%。 |
申请公布号 |
CN100392886C |
申请公布日期 |
2008.06.04 |
申请号 |
CN200410018579.0 |
申请日期 |
2004.05.21 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
仇萍荪;丁爱丽;何夕云;程文秀;郑鑫森 |
分类号 |
H01L41/22(2006.01);B05D1/30(2006.01);B05D5/12(2006.01) |
主分类号 |
H01L41/22(2006.01) |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
潘振甦 |
主权项 |
1.一种大面积铁电薄膜的制备方法,按制备的铁电薄膜的配置成溶液,选定基片,然后用匀胶法制备薄膜,其特征在于基片放在由圆环状改成发射状的吸气盘上,将溶液均匀滴在基片上,甩胶速度控制在3000-5000转/分钟,时间20-40秒;然后放在320-420℃的热板上预烧结10-15分钟,经5-10次成膜-预烧结-再成膜制成铁电薄膜,最后经650-750℃,氧气氛下快速退火处理;所述的改进后发射状吸气盘圆槽的宽度为0.8-1.5mm;深度为0.5-0.8mm;有效增加了圆槽和直线槽的数量。 |
地址 |
200050上海市定西路1295号 |