真空处理设备

摘要

一种真空处理设备,该设备可于一基板,如一用于液晶显示(LCD)面板之玻璃基板或一晶圆上执行蚀刻或沈积处理。该真空处理设备系包含有:一腔室主体,系具有一处理空间,系用于在其中执行真空处理,以及一出入口,系用于使一基板通过该出入口由腔室主体之一侧或多侧进入该腔室主体或从该腔室主体中取出,其中,一边缘切割部,系透过对该出入口朝向处理空间之至少一部分边缘进行切割,而形成于该出入口朝向处理空间之至少一部分边缘上。