电子束曝光装置及电子束曝光方法

摘要

本发明系提供一种得以缩短再聚焦时间且提升生产效率的电子束曝光装置及电子束曝光方法。前述电子束曝光装置包含有电子枪、整形机构、投影透镜、再聚焦镜及控制机构。该电子枪系用以放射电子束者,且该整形机构系具有用以整形前述电子束之开口者。该投影透镜系用以使前述电子束于样品面上成像者,且该再聚焦镜系设置于前述投影透镜上方,由用以修正电子束之焦点的多极静电透镜所形成者,而该控制机构系可于前述再聚焦镜施加因应业经前述整形机构整形之前述电子束之截面积的电压者。前述再聚焦镜系可于前述电子束之电子束轴方向具有3段4极静电电极者,且3段4极静电电极中,第1段及第3段电极长度可相同,第2段电极长度可为第1段电极长度的2倍。