发明名称 电容器及其电极的制造方法
摘要 一种电容器电极的制造方法。这种方法是先提供一个基底,再于基底上形成一层介电层。随后,于介电层上形成一个多层罩幕,并露出部分介电层,其中多层罩幕是由至少两层具有不同蚀刻率的材料所构成。接着,去除露出的介电层以形成一个沟渠,再过度蚀刻介电层,以扩大沟渠的内径。然后,于基底上形成一层导电层覆盖多层罩幕及沟渠表面,再将沟渠以外的导电层去除,以形成电容器的电极。因此,不会造成导电层过多的损失。
申请公布号 TW200824096 申请公布日期 2008.06.01
申请号 TW095143934 申请日期 2006.11.28
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 林宗德;李政哲
分类号 H01L27/108(2006.01) 主分类号 H01L27/108(2006.01)
代理机构 代理人 王宗梅
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼