| 主权项 |
1.一种偏光膜之制造方法,为具有染色处理步骤及 延伸处理步骤者,其特征为于至少一种处理液中, 令多枚薄膜不会接触且依将多枚薄膜纵向排列之 状态同时进行浸渍。 2.如申请专利范围第1项之偏光膜之制造方法,其中 薄膜数为2枚以上且4枚以下。 3.如申请专利范围第1项之偏光膜之制造方法,其中 于染色处理步骤中将聚乙烯醇系薄膜以二色性物 质染色后,将经染色之薄膜于延伸处理步骤中予以 单轴延伸。 4.一种偏光膜,其特征为根据申请专利范围第1项之 制造方法而取得。 5.一种光学膜,其特征为包括申请专利范围第4项之 偏光膜、与在该偏光膜之至少单面上所具备之光 学层。 6.一种液晶面板,其特征为包含申请专利范围第4项 之偏光膜。 7.一种影像显示装置,其特征为包含申请专利范围 第4项之偏光膜。 8.如申请专利范围第6项之液晶面板,其系利用内部 (in-house)制造法所制造。 9.如申请专利范围第7项之影像显示装置,其系利用 内部制造法所制造。 10.一种偏光膜制造装置,其特征为包含下述之处理 浴:具备有于至少一种处理液中,令多枚薄膜不会 接触且依将多枚薄膜纵向排列之状态同时进行浸 渍用之薄膜搬送用保持器具。 11.如申请专利范围第10项之偏光膜制造装置,其中 薄膜数为2枚以上且4枚以下。 12.如申请专利范围第1项之偏光膜之制造方法,其 中总延伸倍率为3.0以上且7.0以下。 图式简单说明: 图1为本发明之偏光膜制造处理步骤之一例。 图2为先前之偏光膜制造处理步骤之一例。 图3为使用二个薄膜搬送用保持器具,将搬送薄膜 以横向两列并列时之由搬送方向正面观察时的处 理浴剖面图。 图4为使用一个薄膜搬送用保持器具,将搬送薄膜 以横向两列并列时之由搬送方向正面观察时的处 理浴剖面图。 图5为将搬送薄膜以纵向三段并列时之由搬送方向 正面观察时的处理浴剖面图。 图6为将搬送薄膜以纵横二段二列并列时之由搬送 方向正面观察时的处理浴剖面图。 图7为使用三个薄膜搬送用保持器具,将搬送薄膜 以横向三列并列时之由搬送方向正面观察时的处 理浴剖面图。 |
