摘要 |
本发明系关于一种用于产生有机酸或其衍生物之方法,其包含在均相MC型触媒及氧化剂存在下氧化烃基质。详言之,本发明系关于一种在选自Co/Br、Mn/Br、Co/Mn/Br及Co/Mn/M/Br之均相MC型触媒存在下及在其中O2分压控制在30-40%之O2/CO2混合气体氧化剂存在下,将烃基质氧化之方法,藉此即使在较温和条件下亦改良氧化速度、转化率、选择性及产率。本发明尤其可将以往需藉由加氢还原作业来移除之有色杂质及其他杂质(诸如4-CBA及对甲苯甲酸)之生成量显着减少至可忽略之程度。此外,由于燃烧所致之乙酸溶剂之损失亦可利用本发明之方法而大大减少。 |