| 摘要 |
一种去除光阻剂、离子注入光阻剂、蚀刻残余物或BARC的配方,其中该配方包括:氢氧化铵和2-胺基苯并唑、余量的水。优选地,该配方包括:氢氧化四甲基铵、甲苯基三唑、丙二醇、2-胺基苯并唑、二丙二醇单甲醚、余量的水;更优选:氢氧化四甲基铵1-15重量%、甲苯基三唑1-5重量%、丙二醇5-15重量%、2-胺基苯并唑1-10重量%、二丙二醇单甲醚20-45重量%、余量的水。本发明还是一种从基材去除选自光阻剂、蚀刻残余物、BARC以及它们的组合的物质的方法,其包括:将上述的配方施用到所述基材从而从所述基材去除所述物质。 |
