| 摘要 |
本发明系提供能从基板上将光阻良好去除,且可达该光阻去除时所使用处理液之再利用的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置,系包括有:基板保持手段、过硫酸生成手段、混合手段、以及吐出手段;该基板保持手段系保持着基板;该过硫酸生成手段系使用硫酸而生成过硫酸;该混合手段系将利用上述过硫酸生成手段所生成的过硫酸、与较上述过硫酸生成手段所使用硫酸更高温且高浓度的硫酸进行混合;该吐出手段系将利用上述混合手段所混合的过硫酸与硫酸之混合液,当作供从基板上将光阻去除用的处理液,并朝由上述基板保持手段所保持的基板吐出。 |
