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发明名称
制造薄膜图案之设备及使用该设备制造薄膜图案之方法
摘要
一种薄膜图案制造设备及其制造方法,其中由于制程偏差的减小可形成具有可靠性的薄膜图案。薄膜图案制造设备包含:涂覆设备,用于涂覆蚀刻光阻溶液于形成有薄膜的基板上;软模,具有凹陷和凸起,用于按压蚀刻光阻溶液以形成具有对应凹陷之形状的蚀刻光阻图案;以及固化设备,用于固化蚀刻光阻溶液;其中,软模之凸起具有位于其末端之狭窄区域。
申请公布号
TW200823981
申请公布日期
2008.06.01
申请号
TW096144204
申请日期
2007.11.21
申请人
LG飞利浦股份有限公司
发明人
南妍熙;金珍郁
分类号
H01L21/302(2006.01);H01L21/311(2006.01)
主分类号
H01L21/302(2006.01)
代理机构
代理人
许世正
主权项
地址
韩国
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