| 摘要 |
一光学记录媒体依序包含基板、含有机染料且经雷射光照射可记录资料之记录层、反射层、以及保护层。此有机染料为一具取代基之青素(phthalocyanine)如式(I)所示:其中R1,R2,R3和R4可分别代表有1至12个碳原子之烷基链,其上可被0至6个卤素原子,羟基,1至6个碳原子之烷氧基,1至6个碳原子之烷胺基,1至6个碳原子之二烷胺基,或1至6个碳原子之烷硫基所取代;2至12个碳原子之烯基链;或2至12个碳原子之炔基链;M为两个氢原子,一个2价金属,一个具有单取代之3价金属,一个具有双取代之4价金属,或氧化金属基;S代表一个具有-SO3-基之分子部份体(moiety);且n为1到4之间的整数。 |
| 主权项 |
1.一种新颖之青素(phthalocyanine)衍生物,其结构如 式(I): 其中R1,R2,R3和R4可分别代表有1至12个碳原子之烷基 ,其上可被0至6个卤素原子,羟基,1至6个碳原子之烷 氧基,1至6个碳原子之烷胺基,1至6个碳原子之二烷 胺基,或1至6个碳原子之烷硫基所取代;2至12个碳原 子之烯基;或2至12个碳原子之炔基;M为两个氢原子, 一个2价金属,一个具有单取代之3价金属,一个具有 双取代之4价金属,或氧化金属基;S代表一个具有-SO 3-基之分子部份体;且n为1到4之间的整数。 2.一种根据申请专利范围第1项所述青素衍生物 之合成方法,包括将磺酸酯基化合物共价键结至具 取代基或未取代之青素。 3.根据申请专利范围第2项之方法,包括将含羟基之 青素衍生物与磺酸酐或磺醯氯化合物于无水条 件下反应。 4.根据申请专利范围第2项之方法,包括将磺醯氯基 先行取代至青素衍生物,再与醇类反应。 5.一种新颖之青素(phthalocyanine)衍生物,其结构如 式(II): 其中R30为三氟甲基或甲苯基,n为1~4之整数。 6.一种根据申请专利范围第5项所述青素衍生物 之合成方法,包括将具羟基取代之青素与三氟甲 基磺酸酐(trifluoromethanesulfonic anhydride)于无水条件 下反应。 7.一种根据申请专利范围第5项所述青素衍生物 之合成方法,包括将具羟基取代之青素与对-甲 苯磺醯氯(p-toluenesulfonyl chloride)于有机硷催化下反 应。 8.一种青素衍生物作为光学纪录媒体所含纪录 层中光学染料之用途,其系根据申请专利范围第1 或5项所述青素衍生物作为该纪录层中光学染料 。 9.一种光学纪录媒体,其依序包含基板、含有机染 料且经雷射光照射可纪录资料之纪录层、反射层 、以及保护层,其中该纪录层包含根据申请专利范 围第1或5项青素衍生物作为该光学染料。 |
