发明名称 基片存放容器的乾式清洗装置
摘要 本发明系关于一种基片存放容器的乾式清洗装置,该乾式清洗装置包含:装载部,以用于投入并移送基片存放容器;清洗部,以用于使用乾冰粒子清洗该基片存放容器;卸载部,以用于搬出并移送在该清洗部完成清洗之该基片存放容器。依据本发明,因为使用乾冰粒子清洗基片存放容器,所以无被排出之废弃物而具有环保效果。并且,本发明因为使用乾冰粒子,所以可进行微细的清洗并使基片存放容器之变形或破损最小,具有延长使用寿命之效果。并且,本发明与现有的湿式清洗装置相比清洗制程较简单,因而可使设备大小显着变小,具有经济效应。
申请公布号 TWI297290 申请公布日期 2008.06.01
申请号 TW095128138 申请日期 2006.08.01
申请人 三星康宁精密琉璃股份有限公司 发明人 金世镐;朴钟秀;尹哲男
分类号 B08B9/30(2006.01);B08B5/02(2006.01) 主分类号 B08B9/30(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种基片存放容器的乾式清洗装置,其特征在于 包含: 一装载部,用于装载一基片存放容器; 一清洗部,用于使用乾冰粒子清洗该基片存放容器 ;以及 一卸载部,用于卸载在该清洗部进行清洗之该基片 存放容器。 2.如请求项1之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于:该装载部按照互不相同的路径将该基片存 放容器的主体及盖子装载至该清洗部; 该清洗部向该主体及盖子之整个内部分别喷射乾 冰粒子; 该卸载部按照互不相同的路径卸载进行清洗之该 主体及盖子。 3.如请求项2之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于: 该装载部使该主体开口朝下,同时使主体上升至高 于最初之投入高度的位置而移送至该清洗部; 该清洗部自下向上进入至该主体内部而喷射乾冰 粒子; 该卸载部使自该清洗部搬出之该主体开口朝上,同 时使主体下降至最初之投入高度而进行移送。 4.如请求项3之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该装载部及该卸载部亦包含一对翻转单元, 以用于上下翻转投入至该装载部之该主体,并将自 该清洗部搬至该卸载部之该主体上下翻转为开口 朝上。 5.如请求项4之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该等翻转单元中之每一者包含: 一加压旋转部件,用于加压支持该主体的两个侧面 而进行旋转;以及 一升降部件,用于升降该加压旋转部件。 6.如请求项5之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该加压旋转部件包含: 在该主体之两个侧面相对而设置的一对加压衬垫; 一对驱动部,以用于旋转该等加压衬垫中之每一者 ;以及 一对汽缸,以用于将该等驱动部中之每一者移送至 该主体侧面,以使该加压衬垫加压接触该主体侧面 。 7.如请求项3之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该清洗部包含一乾式喷射单元,以用于向该 主体或该盖子内部之互不相同的多个部位呈辐射 状地喷射乾冰粒子。 8.如请求项7之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该乾式喷射单元包含多个乾冰喷嘴,该等乾 冰喷嘴偏心结合至与驱动轴相结合之转板,并根据 该转板之旋转呈辐射状地喷射乾冰粒子。 9.如请求项8之基片存放容器的乾式清洗装置,其特 征在于该乾式喷射单元亦包含一空气喷嘴,以用于 向该主体或盖子内部喷射乾燥空气。 10.如请求项3之基片存放容器的乾式清洗装置,其 特征在于该清洗部亦包含一气刀,以用于向该主体 或盖子的外表面加压喷射乾燥空气。 11.如请求项10之基片存放容器的乾式清洗装置,其 特征在于该清洗部设置在外壳内部,该外壳亦包含 一门,以用于开闭投入该基片存放容器之入口或搬 出该基片存放容器之出口。 12.如请求项3之基片存放容器的乾式清洗装置,其 特征在于该清洗部亦包含一清除单元,以用于藉由 向外排出而清除清洗过程中产生之杂质。 图式简单说明: 图1为一般的基片存放容器一实施例之剖面图; 图2为本发明所提供之基片存放容器的乾式清洗装 置一实施例之平面结构示意图; 图3为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置装载部的本发明一实施例之侧面结构示意 图; 图4为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置装载部的本发明一实施例之正面结构示意 图; 图5为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置清洗部的本发明一实施例之侧面结构示意 图; 图6为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置清洗部的本发明一实施例之正面结构示意 图; 图7为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置卸载部的本发明一实施例之侧面结构示意 图; 图8为表示本发明所提供之基片存放容器的乾式清 洗装置卸载部的本发明一实施例之正面结构示意 图;
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