| 主权项 |
1.一种蚀刻液浓度的监控方法,适用于一持续反应 之蚀刻液之监控,其步骤包括: A.在第一时间抽取一定量之蚀刻液样本; B.使用乙二醇稀释该蚀刻液; C.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点; D.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第一时间的蚀 刻液浓度; E.在第二时间抽取一定量之蚀刻液样本; F.使用乙二醇稀释该蚀刻液; G.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点; H.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第二时间的蚀 刻液浓度;以及 I.依据第二时间与及第一时间的浓度差値,补充该 蚀刻液消耗自由基的成分,使该蚀刻液回覆到第一 时间的蚀刻能力。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该蚀刻液 样本系利用一循环泵浦抽取。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,该蚀刻液可以 为磷酸、硝酸和醋酸的复合蚀刻液。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中使该蚀刻 液样本系透过一浓度调整装置与浓度控制器的调 整,以获得均匀的浓度。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该蚀刻液 在第一时间之消耗量系透过一浓度量测装置进行 量测。 6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该浓度量 测装置更包括一搅拌装置,用以搅拌该化学药液使 其更均匀。 7.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该浓度量 测装置更包括一补酸泵浦用以回补该消耗量之蚀 刻液成份使其浓度维持稳定。 8.一种蚀刻液浓度的监控方法,适用于一持续反应 之蚀刻液之监控,其步骤包括: A.在第一时间抽取一定量之蚀刻液样本; B.使用乙二醇稀释该蚀刻液; C.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点; D.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第一时间的蚀 刻液浓度; E.在第二时间抽取一定量之蚀刻液样本; F.使用乙二醇稀释该蚀刻液; G.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点 H.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第二时间的蚀 刻液浓度; I.根据第一时间与第二时间的浓度变化与及药液 的蚀刻时间,预估药液的正常消耗速度;以及 J.依据第二时间与及第一时间的浓度差値与及预 估的药液消耗速度,补充该蚀刻液消耗自由基的成 分,使该蚀刻液稳定维持在第一时间的蚀刻能力。 9.如申请专利范围第8项所述之方法,其中该蚀刻液 样本系利用一循环泵浦抽取。 10.如申请专利范围第8项所述之方法,该蚀刻液可 以为磷酸、硝酸和醋酸的复合蚀刻液。 11.如申请专利范围第8项所述之方法,其中使该蚀 刻液样本系透过一浓度调整装置与浓度控制器的 调整,以获得均匀的浓度。 12.如申请专利范围第8项所述之方法,其中该蚀刻 液在第一时间之消耗量系透过一浓度量测装置进 行量测。 13.如申请专利范围第12项所述之方法,其中该浓度 量测装置更包括一搅拌装置,用以搅拌该蚀刻液使 其更均匀。 14.如申请专利范围第12项所述之方法,其中该浓度 量测装置更包括一补酸泵浦用以回补该消耗量之 蚀刻液使其浓度维持稳定。 15.一种蚀刻液浓度的监控方法,适用于一持续反应 之蚀刻液之监控,其步骤包括: A.预设一蚀刻液之消耗速度; B.在该蚀刻液第一时间反应的同时,以该预设消耗 速度回补化学药液; C.在第一时间抽取一定量之蚀刻液样本; D.使用乙二醇稀释该蚀刻液; E.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点; F.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第一时间该蚀 刻液浓度; G.在第二时间抽取一定量之蚀刻液样本; H.使用乙二醇稀释该蚀刻液; I.采用滴定法量测该蚀刻液样本之酸硷値当量点; J.依据酸硷値当量点的滴定量,计算第二时间该蚀 刻液浓度; K.根据第一时间与第二时间的浓度变化与及药液 的蚀刻时间,修正药液的消耗速度; L.依据第二时间与及第一时间的浓度差値与及修 正的药液消耗速度,补充该蚀刻液消耗自由基的成 分,使蚀刻液稳定维持在第一时间的蚀刻能力。 16.如申请专利范围第15项所述之方法,其中该预设 一消耗速度回补蚀刻液是根据100%的预测値或是其 他比例的预测値。 17.如申请专利范围第15项所述之方法,其中该蚀刻 液样本系利用一循环泵浦抽取。 18.如申请专利范围第15项所述之方法,该蚀刻液可 以为磷酸、硝酸和醋酸的复合蚀刻液。 19.如申请专利范围第15项所述之方法,其中使该蚀 刻液样本系透过一浓度调整装置与浓度控制器的 调整,以获得均匀的浓度。 20.如申请专利范围第15项所述之方法,其中该蚀刻 液在第一时间之消耗量系透过一浓度量测装置进 行量测。 21.如申请专利范围第20项所述之方法,其中该浓度 量测装置更包括一搅拌装置,用以搅拌该蚀刻液使 其更均匀。 22.如申请专利范围第20项所述之方法,其中该浓度 量测装置更包括一补酸泵浦用以回补该消耗量之 蚀刻液使其浓度维持稳定。 图式简单说明: 图一 系为习知薄膜电晶体之结构示意图; 图二 系为习知技术之铝酸随时间下降的曲线图示 意图; 图三 系为本发明之蚀刻液浓度的监控装置示意图 ; 图四 系为本发明之浓度量测装置示意图; 图五A 系为本发明之量测后调整药液浓度差値型 流程图; 图五B 系为本发明之量测后调整药液浓度差値型 示意图; 图六A 系为本发明之多次量测的归纳値型流程图; 图六B 系为本发明之多次量测的归纳値型示意图; 图七A系为本发明之预测添加値与量测修正値混用 型流程图;以及 图七B系为本发明之预测添加値与量测修正値混用 型示意图。 |
