| 摘要 |
L'invention concerne la métallisation non électrolytique d'un substrat de nature quelconque, par exemple non conducteur, par projection d'aérosol contenant une solution de cation métallique oxydant et de réducteur apte à transformer ce cation en métal, pour former un film déposé à la surface du substrat à métalliser.Le but de la présente invention est un procédé et un dispositif perfectionné de métallisation chimique industriel et automatique.Ce but est atteint par le procédé de l'invention qui consiste à mettre en oeuvre au moins une étape préalable -ap- de mouillage du substrat consistant à mettre ce dernier en contact avec au moins un fluide de mouillage, de manière à former sur au moins une partie de sa surface un film liquide; et à la suite du mouillage -ap-, au plus tard 60 s après la fin du mouillage, de commencer à effectuer la projection de métallisation selon une succession d'au moins deux phases de projection, en alternance avec des phases de relaxation: (i) en fixant la durée Dp des phases de projection entre 10<-2> et 5 s et la durée Dr des phases de relaxation entre 10<-2> et 10 s, pour une même unité de surface, (ii) et en ajustant le(s) débit(s) de projection, avec le rapport électronique Ox / Red compris entre 0,01 et 15, et à effectuer la projection de métallisation de manière dynamique en déplaçant les moyens de projection par rapport au substrat de manière à effectuer un balayage périodique d'au moins 80 % de la surface à métalliser; avec Dp correspondant à la durée pendant laquelle l'unité de surface considérée est soumise à la projection continue de l'aérosol et Dr correspondant à la durée du balayage du reste de la surface à métalliser par les moyens de projection; les moyens de projection se déplacent selon une trajectoire TOA entre un point d'origine (O) et un point d'arrivée (A) à une vitesse de déplacement en projection VoA, puis regagnent le point (O) à une vitesse VAO de déplacement sans projection selon une trajectoire TAO; VAO étant calculée pour que Dr soit telle que définie ci-dessus au moyen d'une unité de calcul et de commande UCC à laquelle sont asservis les moyens de projection et un système de déplacement desdits moyens de projection.
|
