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发明名称 Method of etching an interlayer insulating film in a semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100833421(B1) 申请公布日期 2008.05.29
申请号 KR20020035617 申请日期 2002.06.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/311 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人
主权项
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