发明名称 METHOD FOR OPERATING A PLASMA PROCESS AND PLASMA SYSTEM
摘要 <p>Ein Verfahren zum Betreiben eines oder mehrerer Plasmaprozesse in einer Plasmakammer, mit zumindest zwei Leistungsversorgungen mit den Verfahrensschritten : a. Durchführen einer Arcerkennung für zumindest eine der Leistungsversorgungen; b. Erzeugen zumindest eines mit der Arcerkennung in Beziehung stehenden Signals und/oder von mit der Arcerkennung in Beziehung stehenden Daten; c. Übermitteln des zumindest einen Signals und/oder der Daten an eine Plasmaprozessregelungseinrichtung und/oder an eine oder mehrere andere Leistungsversorgungen oder an eine oder mehrere den anderen Leistungsversorgungen zugeordneten Arcableitervorrichtungen.</p>
申请公布号 WO2008061775(A1) 申请公布日期 2008.05.29
申请号 WO2007EP10176 申请日期 2007.11.23
申请人 HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG;NITSCHKE, MORITZ 发明人 NITSCHKE, MORITZ
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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