发明名称 |
METHOD FOR OPERATING A PLASMA PROCESS AND PLASMA SYSTEM |
摘要 |
<p>Ein Verfahren zum Betreiben eines oder mehrerer Plasmaprozesse in einer Plasmakammer, mit zumindest zwei Leistungsversorgungen mit den Verfahrensschritten : a. Durchführen einer Arcerkennung für zumindest eine der Leistungsversorgungen; b. Erzeugen zumindest eines mit der Arcerkennung in Beziehung stehenden Signals und/oder von mit der Arcerkennung in Beziehung stehenden Daten; c. Übermitteln des zumindest einen Signals und/oder der Daten an eine Plasmaprozessregelungseinrichtung und/oder an eine oder mehrere andere Leistungsversorgungen oder an eine oder mehrere den anderen Leistungsversorgungen zugeordneten Arcableitervorrichtungen.</p> |
申请公布号 |
WO2008061775(A1) |
申请公布日期 |
2008.05.29 |
申请号 |
WO2007EP10176 |
申请日期 |
2007.11.23 |
申请人 |
HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG;NITSCHKE, MORITZ |
发明人 |
NITSCHKE, MORITZ |
分类号 |
H01J37/32 |
主分类号 |
H01J37/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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