| 发明名称 | 空间滤光片 | ||
| 摘要 | 一种经蚀刻的刻面单横向模式半导体光子器件，它是通过在经蚀刻的刻面上沉积防反射涂层并以空间上受控制的方式沉积反射率修改涂层以修改所发射的光束的空间性能而制造的。 | ||
| 申请公布号 | CN101189768A | 申请公布日期 | 2008.05.28 |
| 申请号 | CN200680019622.2 | 申请日期 | 2006.06.01 |
| 申请人 | 宾奥普迪克斯股份有限公司 | 发明人 | A·A·彼法;A·T·舒瑞莫 |
| 分类号 | H01S5/00(2006.01);H01S3/04(2006.01) | 主分类号 | H01S5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 李玲 |
| 主权项 | 1.一种光子器件，包括：衬底；包括活性层的外延半导体结构；在所述结构中制造的经蚀刻的刻面；以及沉积在所述经蚀刻的刻面上的空间滤光片。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||