发明名称 |
具有优化放大倍率的双抛物面和双椭球面反射系统 |
摘要 |
本发明提供了一种聚集和收集光学系统,该系统包括两个不对称的反射器。第一反射器和第二反射器均包括具有平行光轴的部分回转椭球面或回转抛物面。电磁辐射源放置在第一反射器的其中一个焦点处并用于产生辐射射线,第二反射器接收辐射射线并使其聚焦于靶处。为了获得最大化的输出耦合效率,第二反射器与第一反射器之间存在焦距差,从而使输入到靶处的射线具有较小的入射角。 |
申请公布号 |
CN101189472A |
申请公布日期 |
2008.05.28 |
申请号 |
CN200680019353.X |
申请日期 |
2006.06.29 |
申请人 |
微阳有限公司 |
发明人 |
K·K·李 |
分类号 |
F21V7/00(2006.01);F21V7/06(2006.01);F21V7/08(2006.01) |
主分类号 |
F21V7/00(2006.01) |
代理机构 |
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王勇 |
主权项 |
1.一种利用电磁辐射射线照射靶的光学设备,包括:第一反射器,其包括第一焦点和第一光轴,所述电磁辐射射线导向至基本上靠近所述第一反射器的所述第一焦点的位置;以及第二反射器,其包括第二焦点和第二光轴,所述第二反射器相对于所述第一反射器进行定位和定向,以便接收至少部分从所述第一反射器反射回的射线并将所述射线的所述部分反射至放置于基本上靠近所述第二反射器的所述第二焦点处的靶,所述第二反射器与所述第一反射器不对称。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |