发明名称 | 通过表面波等离子体形成蒸镀膜的方法及装置 | ||
摘要 | 本发明的蒸镀膜形成方法的特征在于,在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置(10),使塑料薄膜基材(13)以面对该表面波发生装置的方式连续地移动到该真空区域内,并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内,借助来自该表面波发生装置(10)的微波的表面波来执行等离子体反应,从而在上述薄膜基材(13)表面上连续地形成蒸镀膜。根据该方法,能够通过微波的表面波等离子体,在薄膜基材表面上、特别是长条薄膜的表面上连续地形成蒸镀膜。 | ||
申请公布号 | CN101189360A | 申请公布日期 | 2008.05.28 |
申请号 | CN200680019913.1 | 申请日期 | 2006.04.03 |
申请人 | 东洋制罐株式会社 | 发明人 | 山田幸司;国广一郎;稻垣肇;仓岛秀夫 |
分类号 | C23C16/511(2006.01) | 主分类号 | C23C16/511(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
主权项 | 1.一种蒸镀膜形成方法,其特征在于,在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置,以使塑料薄膜基材面对该表面波发生装置的方式,使塑料薄膜基材连续地移动到该真空区域内,并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内,通过利用来自该表面波发生装置的微波的表面波执行等离子体反应,在上述薄膜基材表面上连续地形成蒸镀膜。 | ||
地址 | 日本东京都 |