发明名称 |
一种核磁共振波谱检测平面微线圈及其制作方法 |
摘要 |
一种核磁共振检测平面微线圈及其制作方法,平面微线圈(1)为螺旋形,位于绝缘衬底(2)上表面,用铜制作。绝缘衬底(2)材料为玻璃或聚合物。平面微线圈(1)带有内侧和外侧两个端部焊盘(4、5),平面微线圈(1)与相应的两个端部焊盘(4、5)为一体,一次铜微电镀成形。焊盘(4、5)厚度与平面微线圈(1)的厚度相同。平面微线圈(1)制作方法包括光刻胶掩模工艺与铜微电镀工艺,掩模光刻工艺用于制作微电镀时所用掩模,铜微电镀工艺用于在光刻胶掩模中制作微米级结构精度的平面微线圈。本发明平面微线圈可以用于核磁共振纳升级样品成分与分子结构分析,也可用于核磁共振微成像,如对单一细胞进行观察。 |
申请公布号 |
CN101187698A |
申请公布日期 |
2008.05.28 |
申请号 |
CN200710179309.1 |
申请日期 |
2007.12.12 |
申请人 |
中国科学院电工研究所 |
发明人 |
李晓南;赵武贻;王明;杨文晖 |
分类号 |
G01R33/34(2006.01);G01N24/08(2006.01);H01F5/00(2006.01) |
主分类号 |
G01R33/34(2006.01) |
代理机构 |
北京科迪生专利代理有限责任公司 |
代理人 |
关玲;成金玉 |
主权项 |
1.一种核磁共振波谱检测平面微线圈,其特征在于线圈形状为螺旋形,用铜制作,平面微线圈(1)带有内侧和外侧两个端部焊盘(4、5),平面微线圈(1)与相应的两个端部焊盘(4、5)为一体,一次铜微电镀成形;端部焊盘(4、5)为方形或圆形焊盘,焊盘(4、5)厚度与平面微线圈(1)的厚度相同;平面微线圈(1)的绝缘衬底(2)为玻璃或聚合物。 |
地址 |
100080北京市海淀区中关村北二条6号 |