| 发明名称 | 基板处理装置、基板处理方法及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种节省空间、处理能力高、且可进行高均一性处理的基板处理装置及基板处理方法。所述基板处理装置包括：基板保持单元，以基板20主表面向斜上方倾斜的状态保持基板20呈规定范围内的倾斜角度；处理液供给单元，向倾斜状态的基板20的至少一边方向大致均匀地提供处理液，使基板20主表面的全部区域布满处理液；使上述基板20与上述处理液供给单元相对移动的移动单元。通过上述基板保持单元使得基板20相对于水平方向的倾斜角度(α)在25度～80度的范围内。上述处理液供给单元包括能够向基板20的一边方向均匀提供处理液的喷嘴30，上述移动单元使喷嘴30在基板20的主表面上与上述一边垂直移动。 | ||
| 申请公布号 | CN100390931C | 申请公布日期 | 2008.05.28 |
| 申请号 | CN200510079688.8 | 申请日期 | 2005.06.24 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 井村和久 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3213(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/311(2006.01);G03F7/30(2006.01);G03F1/00(2006.01);C23F1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.基板处理装置，其是向基板主表面提供处理液以进行规定处理的基板处理装置，其特征在于，其具备以下单元：基板保持单元，以基板主表面向斜上方倾斜的状态保持基板相对于水平方向的倾斜角度在25度～80度的范围内；处理液供给单元，该处理液供给单元具有向通过所述基板保持单元保持倾斜状态的基板的至少一边方向均匀地供给处理液的多个喷嘴；移动单元，该移动单元使所述喷嘴在基板主表面上与所述一边方向垂直地以10米/分钟以上的速度移动，从而使基板主表面的全部区域布满处理液。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||