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发明名称 Bestralingswerkwijze en apparaat voor onderdompelingslithografie.
摘要
申请公布号 NL1032675(C2) 申请公布日期 2008.05.27
申请号 NL20061032675 申请日期 2006.10.13
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 CHING-YU CHANG;CHIN-HSIANG LIN;BURN-JENG LIN;DING-CHUNG LU
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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