| 主权项 |
1.一种光电装置,其特征乃具备 平板状之基材, 和设于分割于前述基材之表面之复数之单位范围 的第1电极, 和设于对于前述第1电极而言,与前述基材相反侧 的第2电极, 和选择性设置于构成前述复数之单位范围中之特 定之画像的单位范围之画素范围,藉于前述第1电 极和前述第2电极间的光电元件。 2.如申请专利范围第1项之光电装置,其中,具备设 于前述复数之单位范围中之画素范围以外之单位 范围之非画素范围,电性绝缘前述第1电极和第2电 极的绝缘体。 3.一种光电装置,其特征乃具备 平板状之基材, 和设于分割于前述基材之表面之复数之单位范围 的第1电极, 和设于对于前述第1电极而言,与前述基材相反侧 的第2电极, 和设于各前述复数之单位范围,介于前述第1电极 和前述第2电极间之光电元件, 和选择性设置于构成前述复数之单位范围中之特 定之画像的单位范围以外之单位范围之非画素范 围,电性绝缘前述第1电极和第2电极的绝缘体。 4.如申请专利范围第1项或第3项之光电装置,其中, 具备于前述基材之表面,由垂直方向视之,与前述 光电元件之一部分重叠而设置,介于前述第1电极 和前述第2电极间之部分绝缘体。 5.如申请专利范围第1项或第3项之光电装置,其中, 具备设于相互邻接之单位范围之各间隙的间隔壁; 前述光电元件乃设于经由前述间隔壁所包围之范 围内。 6.如申请专利范围第1项或第3项之光电装置,其中, 各前述第1电极及前述第2电极乃在于前述复数之 单位范围中,为单一之电极者。 7.如申请专利范围第1项或第3项之光电装置,其中, 前述第1电极乃设于各别不同之单位范围之复数之 画素电极。 8.如申请专利范围第7项之光电装置,其中,将前述 复数之单位范围,分割成对应于各为不同之颜色的 2以上之群时,施加于设于前述各单位范围之画素 电极的电压,则对每该单位范围所属之群而言,有 所不同者。 9.如申请专利范围第1项或第3项之光电装置,其中, 具备经由具有特定之阻抗率之导电性材料所形成, 介于前述第1电极和前述第2电极之间的阻抗层。 10.一种光电装置,其特征乃具备 平板状之基材, 和于前述基材上,呈面状加以排列之复数之画素电 极, 和各别设于前述各画素电极之面上的复数之光电 元件, 和挟持前述各光电元件,对向于前述复数之画素电 极之对向电极, 和选择性设于对应于前述复数之画素电极中之特 定之画像所选定之1以上之画素电极与电源电路间 ,导通该1以上之画素电极与电源电路之导通部。 11.如申请专利范围第10项之光电装置,其中,前述导 通部乃设于前述1以上之画素电极和前述配线间。 12.如申请专利范围第10项之光电装置,其中,具备各 别连接前述画素电极之复数之配; 前述导通部乃设于连接于对应于前述复数之配线 中特定之画像所选定之1以上之画素电极的各配线 和前述电源电路之间。 13.一种光电装置,其特征乃具备 平板状之基材, 和于前述基材上,呈面状加以排列之复数之画素电 极, 和各别设于前述各画素电极之面上的复数之光电 元件, 和挟持前述各光电元件,对向于前述复数之画素电 极之对向电极, 和各别设定于前述画素电极和电源电路间,导通该 画素电极和前述电源电路之复数之导通部中,各阻 抗値对应于特定之画像选定之复数之导通部。 14.如申请专利范围第13项之光电装置,其中,具备连 接于前述电源电路之配线; 各前述复数之导通部乃设于前述各画素电极和前 述配线间。 15.如申请专利范围第14项之光电装置,其中,前述各 导通部之阻抗値乃对应于连接前述各画素电极和 前述配线之导通部之条数之値。 16.如申请专利范围第14项之光电装置,其中,前述各 导通部之阻抗値乃对应于形成该导通部之导电性 材料之种类之値。 17.如申请专利范围第13项之光电装置,其中,具备各 别连接于前述画素电极之复数之配线; 各前述复数之导通部乃设于前述各配线和前述电 源电路间。 18.如申请专利范围第10项或第13项之光电装置,其 中,具备经由具有特定之阻抗率之导电性材料所形 成,介于前述画素电极和前述对向电极间的阻抗层 。 19.如申请专利范围第18项之光电装置,其中,前述阻 抗层乃由前述光电元件视之,设于与观察恻相反侧 者。 20.如申请专利范围第10项或第13项之光电装置,具 备设于前述基材之面上,具有开口部之膜体; 前述导通部乃设于经由前述膜体之开口部之内周 缘所包围之范围内。 21.一种电子机器,其特征乃具备如申请专利范围第 1至第20项之任一项之光电装置。 22.一种光电装置之制造方法,其特征乃具有 分割于平板状之基材表面之复数之单位范围,形成 第1电极之工程, 和于构成前述复数之单位范围中之特定之画像的 单位范围之画素范围,选择性形成光电元件之工程 , 和形成挟持前述光电元件,与前述第1电极对向之 第2电极的工程。 23.如申请专利范围第22项之光电装置之制造方法, 其中,形成前述第1电极之工程和形成前述第2电极 之工程之间之工程中,具有于前述复数之单位范围 中之前述画素范围以外之单位范围之非画素范围, 形成电性绝缘前述第1电极和前述第2电极之绝缘 体的工程。 24.一种光电装置之制造方法,其特征乃具有 分割于平板状之基材表面之复数之单位范围,形成 第1电极之工程, 和于各前述复数之单位范围,形成光电元件之工程 , 和形成挟持前述光电元件,与前述第1电极对向之 第2电极的工程, 和于前述复数之单位范围中构成特定画像之单位 范围以外之单位范围之非画素范围,形成电性绝缘 前述第1电极和前述第2电极之绝缘体的工程。 25.如申请专利范围第22项或第24项之光电装置之制 造方法,其中,于形成前述光电元件之工程中,将含 光电物质之泪滴,从吐出口吐出,将液滴弹着于前 述基材上而形成前述光电元件者。 26.如申请专利范围第25项之光电装置之制造方法, 其中,较形成前述光电元件之工程之前的工程中, 具有于相互邻接之单位范围之各间隙,形成间隔壁 之工程; 于形成前述光电元件之工程中,于经由前述间隔壁 所包围之范围内,弹着含前述光电物质之液滴。 27.如申请专利范围第23项或第24项之光电装置之制 造方法,其中,形成前述绝缘体之工程中,将含绝缘 性物质之液滴,从吐出口吐出,将此液滴弹着于前 述基材上而形成前述绝缘体。 28.如申请专利范围第22项或第24项之光电装置之制 造方法,其中,具有于前述基材之表面,由垂直方向 视之,与前述光电元件之一部分重叠地,形成介于 前述第1电极和前述第2电极间之部分绝缘体之工 程。 29.如申请专利范围第28项之光电装置之制造方法, 其中,形成前述部分绝缘体之工程中,将含绝缘性 物质之液滴,从吐出口吐出,将此液滴弹着于前述 基材上而形成前述部分绝缘体。 30.一种光电装置之制造方法,其特征乃具有 于平板状之基材上,将复数之画素电极呈面状地加 以排列形成之工程, 和于前述各画素电极之面状,形成光电元件之工程 , 和挟持前述各光电元件,对向于前述复数之画素电 极,形成对向电极之工程, 和选择性形成导通对应于前述复数之画素电极中 之特定画像所选定之1以上之画素电极和电源电路 之导通部的工程。 31.一种光电装置之制造方法,其特征乃具有 于平板状之基材上,将复数之画素电极呈面状地加 以排列形成之工程, 和于前述各画素电极之面状,形成光电元件之工程 , 和挟持前述各光电元件,对向于前述复数之画素电 极,形成对向电极之工程, 和采用各对应于特定之画像所选定之阻抗値,形成 导通前述各画素电极和前述电源电路之复数之导 通部的工程。 32.如申请专利范围第30项或第31项之光电装置之制 造方法,其中,形成前述导通部之工程中,将含导电 性杉料之液滴,从吐出口吐出,将此液滴弹着于前 述基材上而形成前述导通部。 图式简单说明: 图1系为表示有关本发明之第1实施型态之光电装 置的构成方块图。 图2系为表示同光电装置之中显示面板之构成剖面 图。 图3系为表示画素范围及非画素范围之配列的型态 之平面图。 图4(a)至图4(d)系为表示同光电装置之制造方法的 工程图。 图5(a)至图5(c)系为表示同光电装置之制造方法的 工程图。 图6系为表示有关变形例之显示面板构成之剖面图 。 图7系为表示画素范围及非画素范围之其他配列的 型态之平面图。 图8系为表示有关变形例之显示面板构成之剖面图 。 图9系为表示有关变形例之显示面板构成之剖面图 。 图10系为表示有关本发明之第2实施型态之光电装 置的构成方块图。 图11系为表示同光电装置之中显示面板之构成剖 面图。 图12,扩大显示面板之画素电极附近之构成平面图 。 图13系为从针对图12之XIII-XIII线所看到之剖面图, 其中表示有关显示画素之构成图。 图14系为从针对图12之XVI-XVI线所看到之剖面图,其 中表示有关显示画素之构成图。 图15(a)至图15(e)系为表示同光电装置之制造方法的 工程图。 图16(a)至图16(d)系为表示同光电装置之制造方法的 工程图。 图17系为表示有关本发明之第3实施型态之光电装 置的构成方块图。 图18系为同光电装置之中显示面板的剖面图,其中 表示有关显示配线之构成图。 图19系为同显示面板之剖面图,其中表示有关非显 示配线之构成图。 图20系扩大表示同显示面板之中电源配线与配线 的平面图。 图21系为表示有关本发明之第4实施型态之光电装 置的构成方块图。 图22系扩大表示同光电装置之中针对显示面板之 画素电极附近之构成的平面图。 图23系为从针对图22之XXIII-XXIII线所看到之剖面图 。 图24系为表示成为有关本发明之电子机器一例之 行动电话的构成斜视图。 |
