| 主权项 |
1.一种相位移式光罩,包含有: 一透光基板; 一形成在该透光基板上,且沿第一方向配置的复数 行第一相位移线条图案,具有一第一基板厚度,各 该复数行第一相位移线条图案上皆分布有复数个 不透光的铬图案,且在两个相邻的该铬图案之间为 一第一相位移透光区域,其中该复数个不透光的铬 图案系与该第一方向呈45度角斜向配置者;以及 一形成在该透光基板上,与该复数行第一相位移线 条图案平行配置的复数行第二相位移线条图案,该 复数行第二相位移线条图案上完全透光且具有一 第二基板厚度,其中该第一相位移线条图案与该第 二相位移线条图案具有相同线宽且呈交替排列。 2.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该复数个不透光的铬图案大小相等。 3.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该复数个不透光的铬图案系等距分布在该第一相 位移线条图案上。 4.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该不透光的铬图案在该第一方向的长度介于/4 与3/4之间,其中代表曝光光源之波长。 5.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该第一相位移透光区域在该第一方向的长度介于 /4与3/4之间,其中代表曝光光源之波长。 6.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该第一基板厚度大于该第二基板厚度,使光线通过 该第一相位移透光区域与通过该复数条第二相位 移线条图案的相位差为180度。 7.如申请专利范围第1项所述之相位移式光罩,其中 该透光基板为石英基板。 图式简单说明: 第1图绘示的是习知交替式相位移式光罩的剖面结 构示意图。 第2图绘示的是习知无铬膜相位移式光罩之剖面结 构示意图。 第3图绘示的是动态随机存取记忆体元件的字元线 布局。 第4图绘示的是本发明第一实施例之相位移式光罩 的部分布局示意图。 第5图绘示的是沿着第4图中的切线I-I所视的剖面 示意图。 第6图绘示的是沿着第4图中的切线II-II所视的剖面 示意图。 第7图则是经由第4图中的相位移式光罩经由曝光 转移至光阻上的结果图案。 第8图显示的是第7图中的密集线条图案202a及202b的 关键尺寸均匀度。 第9图绘示的是本发明第二实施例之相位移式光罩 的部分布局示意图。 第10图绘示的是沿着第9图中的切线Ⅲ-Ⅲ所视的剖 面示意图。 第11图绘示的是沿着第9图中的切线Ⅳ-Ⅳ所视的剖 面示意图。 第12图则是经由第9图中的相位移式光罩经由曝光 转移至光阻上的结果图案。 第13图显示的是第12图中的密集线条图案302a及302b 的关键尺寸均匀度。 |
