用以形成一光学面板之方法、模制化光学面板及其模具

摘要

一种感光性热阻树脂12，以光阻法利用电脑辅助设计的图案膜14经由曝光和显影，在模具基座11上形成一图案。一个模制化图案13因此形成且建构了模具10。一个光学面板2利用模具10与光学图案3来成型，其中光学图案3包含了圆形或方型的且与模制化图案13反转(互补)的点孔(dot holes)或点投影区域，它们约数μm且以高密度地排列着。光学图案3以高照明与高均匀度的方式引导或传播入射光源，因此在没有穿透(see-through)光学图案下能得到二次照明。

主权项

1.一种模制化光学面板,该光学面板上至少有一个 表面与一光学图案一体成形,该光学图案系藉由下 列步骤形成:使用一具有模具基座之模具,以及使 用一感光性热阻树脂,经由图案薄膜而以光阻法直 接将模制化图案成型在模具基座上; 其中该光学面板是一种散光面板以及该光学图案 是一光导引图案。 2.依申请专利范围第1项之模制化光学面板,其中该 感光性热阻树脂是正型,而该图案薄膜的是正片型 薄膜,因而该光学图形是以具有凹面的光学图案元 件所形成的凹面图形。 3.依申请专利范围第1项之模制化光学面板,其中该 感光性热阻树脂是正型,而该图案薄膜的是负片型 薄膜,因而该光学图形是以具有凸出式的光学图案 元件所形成的凸出式图形。 4.依申请专利范围第1项之模制化光学面板,其中该 感光性热阻树脂是负型,而该图案薄膜的是正片型 薄膜,因而该光学图形是以具有凸出式的光学图案 元件所形成的凸出式图形。 5.依申请专利范围第1项之模制化光学面板,其中该 感光性热阻树脂是负型,而该图案薄膜的是负片型 薄膜,因而该光学图形是以具有凹面的光学图案元 件所形成的凹面图形。 6.依申请专利范围第1-5任一项之模制化光学面板, 其中该光学图案包含该光学图案的元件,其中每一 个的直径都大于1m且小于300m,或在两个光学图 案元件之间的距离,亦即边缘长度是大于5m且小 于1mm。 7.依申请专利范围第1-5任一项之模制化光学面板, 其中该光导引图案是以非步进式改变光导弓图案 的直径、边缘长度及/或密度来形成,因此可操作 反比于(inversely proportional)来自于光入射边缘面的 入射光数量进行光导弓,从该入射边缘面朝一位置 距离行进,以进行光导弓控制。 8.一种应用在模制化光学面板的模具,要至少在该 光学面板之一面一体成型一光学图案,其包含一模 具基座和一模制化图案,该模制化图案系使用感光 性热阻树脂,经由图案薄膜以光阻法成型; 其中该光学面板是一种散光面板以及该光学图案 是一光导弓图案。 9.依申请专利范围第8项之应用在模制化光学面板 的模具,其中该感光性热阻树脂是感光性聚醯亚胺 树脂。 10.一种用以形成一光学面板之方法,该光学面板上 至少有一个表面与一光学图案一体成形,该方法包 含步骤: 提供具有一模具基座之模具;以及 形成一模制图案于该模具基座上;其包含藉由使用 一感光性热阻树脂,经由一图案薄膜而以光阻法将 模制化图案形成在模具基座上; 其中该光学面板是一种散光面板以及该光学图案 是一光导引图案。 11.依申请专利范围第10项之方法,其中其中该感光 性热阻树脂是正型,而该图案薄膜的是正片型薄膜 ,该方法另包含步骤:形成一具有凹面光学图案元 件之凹面图案的光学图案。 12.依申请专利范围第10项之方法,其中该感光性热 阻树脂是正型,而该图案薄膜的是负片型薄膜,该 方法另包含步骤:形成一具有凸出光学图案元件之 凸出图案的光学图案。 13.依申请专利范围第10项之方法,其中该感光性热 阻树脂是负型,而该图案薄膜的是正片型薄膜,该 方法另包含步骤:形成一具有凸出光学图案元件之 凸出图案的光学图案。 14.依申请专利范围第10项之方法,其中该感光性热 阻树脂是负型,而该图案薄膜的是正片型薄膜,该 方法另包含步骤:形成一具有凹面光学图案元件之 凹面图案的光学图案。 15.依申请专利范围第10项之方法,其中该光学图案 包含该光学图案的元件,其中每一个的直径都大于 1m且小于300m,或在两个光学图案元件之间的距 离,亦即边缘长度是大于5m且小于1mm。 16.依申请专利范围第10项之方法,其中该光导引图 案是以非步进式改变光导引图案的直径、边缘长 度及/或密度来形成,因此可操作反比于(inversely proportional)来自于光入射边缘面的入射光数量进行 光导引,从该入射边缘面朝一位置距离行进,以进 行光导引控制。 图式简单说明: 图1系显示一个平面板光源的立体透视图。 图2系显示边缘光面板的纵向剖面图。 图3系显示在模具中的模制化光学面板之纵向剖面 图。 图4系显示模制化边缘光面板的光学图形之纵向剖 面图。 图5系一个在模具基座上形成光阻薄膜状况的流程 图。 图6是光学图案在250倍放大倍率下的显微图。