| 主权项 |
1.一种涂层组成物,包括: (a)含羟基无机颗粒,其平均粒径介于5至30nm之间; (b)含羟基无机颗粒,其平均粒径介于0.2至5m之间; (c)一有机矽烷(organosilane)化合物,其系由下式(I)表 示;以及 (d)一溶剂; [式I] RnSi(OR')4-n (I) 其中,R系为一C1-C8之氨烷基(aminoalkyl)、环氧丙氧基 烷基(glycidoxylalkyl group)、或异氰酸烷基( isocyanatoalkyl); R'系为一C1-C6之低碳数烷基;以及 n系为一介于0至3之间之整数。 2.如申请专利范围第1项所述之涂层组成物,其中更 包括光触媒颗粒。 3.如申请专利范围第1项所述之涂层组成物,其中更 包括一含有烷氧基矽烷官能基之芳香族紫外线吸 收剂之水解产物,其系以下式(II)表示: [式II] 其中R1及R2系各自独立地为C1-C6之烷基; R3系为C1-C6之烷基或芳香基; OR4系为一甲氧基(methoxy)、乙氧基(ethoxy)、丙氧基( propoxy)、异丙氧基(isopropoxy)、丁氧基(butoxy)、或乙 烯氧基(acetoxy); R5系为C1-C12之烷基或芳香基; X系为一氢原子或卤素原子; l系为一介于5至9之间之整数; m系为一介于1至3之间之整数;以及 n系为一介于0至2之间之整数。 4.如申请专利范围第1项所述之涂层组成物,其中该 溶剂系包括至少一有机溶剂,其平均沸点系介于60 ℃至150℃之间。 5.如申请专利范围第1项所述之涂层组成物,其中该 溶剂系包括一有机溶剂,其对塑胶之溶解度参数( solubility parameter,)系为9.5 Mpa0.5或更小。 6.如申请专利范围第1项所述之涂层组成物,其中包 括: (a)15 wt%之该含羟基无机颗粒,其粒径介于5至30nm; (b)15 wt%之该含羟基无机颗粒,其粒径介于0.2至5m; (c)1~15 wt%之该有机矽烷化合物;以及 (d)50~85 wt%之该溶剂。 7.如申请专利范围第6项所述之涂层组成物,其中更 包括: (a)0.1~3 wt%之光触媒颗粒; (b)1~10 wt%之如申请专利范围第3项所述之该含有烷 氧基矽烷官能基之芳香族紫外线吸收剂之水解产 物; (c)0.001~2 wt%之一酸类; (d)1~10 wt%之一热固型(heat-curing)触媒;以及 (e)1~10 wt%之水性聚氨酯(polyurethane)乳化液。 8.一种可自我清洁之基材,包括: (a)一基材;以及 (b)一涂布层,其系由将申请专利范围第1至7项中任 一项所定义之该涂层组成物涂布于该基材之一面 或双面而形成。 9.如申请专利范围第8项所述之可自我清洁之基材, 其中该基材系选自由:薄膜、外层结构材料、磁砖 、塑胶、玻璃、树脂、陶瓷、金属、水泥、纤维 、木材、纸以及石材之群组所组成。 10.如申请专利范围第8项所述之可自我清洁之基材 ,其中该涂布层之厚度系介于0.01至50m之间。 11.一种用以制造一可自我清洁之涂层组成物之方 法,其包括下列步骤: (a)于一分散媒介中加入平均粒径介于5至30nm之间 之无机颗粒,并混合以得到一无机颗粒之分散液; (b)将从步骤(a)所获得之该无机颗粒分散液,与含有 平均粒径介于0.2至5m之间之无机颗粒、一如下 式(I)之有机矽烷化合物、一酸类、以及一溶剂混 合,并使该合成混合物进行反应;以及 (c)于从步骤(b)所获得之反应产物中,加入一有机溶 剂; RnSi(OR')4-n (I) 其中,R系为一C1-C8之氨烷基(aminoalkyl)、环氧丙氧基 烷基(glycidoxylalkyl)、或异氰酸烷基(isocyanatoalkyl); R'系为一C1-C6之低碳数烷基;以及 n系为一介于0至3之间之整数。 12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中在该步 骤(a)及(b)中所使用之该分散媒介或溶剂系至少一 选自由:水、醇类、及酮类之群组所组成。 13.如申请专利范围第11项所述之方法,其中更包括 至少一步骤,其系选自由: (i)于该步骤(b)所获得之反应产物中,加入一热固型 触媒,并于该步骤(b)与(c)之间进行反应; (ii)于该步骤(b)所获得之反应产物中,加入一如式( II)表示之含有烷氧基矽烷官能基之芳香族紫外线 吸收剂之水解产物,并于该步骤(b)与(c)之间进行反 应;以及 (iii)于步骤(c)中,加入光触媒颗粒之分散液、及/或 水性聚氨酯乳化液: 其中R1及R2系各自独立地为C1-C6之烷基; R3系为C1-C6之烷基或芳香羟基; OR4系为一甲氧基(methoxy)、乙氧基(ethoxy)、丙氧基( propoxy)、异丙氧基(isopropoxy)、丁氧基(butoxy)、或乙 烯氧基(acetoxy); R5系为C1-C12之烷基或芳香基; X系为一氢原子或卤素原子; l系为一介于5至9之间之整数; m系为一介于1至3之间之整数;以及 n系为一介于0至2之间之整数,之群组所组成。 14.一种制备一外层结构材料之方法,其系包括下列 步骤: (a)于一外层结构材料之一表面或双面,于该材料通 过一冷却步骤之前,涂布一涂层组成物;以及 (b)冷却或剪裁该步骤(a)中之该外层结构材料。 15.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该外层 结构材料系为一塑胶基材其系经由至少一步骤处 理,该步骤系选自由:压出步骤(压出机)、压纹步骤 (压纹单元)。以及一铸模步骤之群组所组成。 16.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该步骤( a)中之该外层结构材料系包括一表面温度介于100 ℃至250℃之间。 17.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该涂层 组成物系为一如申请专利范围第1至7项中任一项 之涂层组成物,其系含有自我清洁特性。 图式简单说明: 图1系一用以制造外层结构材料之传统制程实例之 示意图,其系于一包括有一压出机、压纹单元、校 准台(供铸模与冷却)、冲孔单元、拖曳单元(供张 力控制)以及一压模机(供剪裁)。 |
