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1.一种关于玻璃研磨用研磨材粒子在水性媒介中 之分散性之品质评估方法,系评估玻璃研磨用研磨 材粒子在水性媒介中之分散性者,其特征为,准备 由将被测量对象之研磨材粒子添加入水性媒介所 形成之研磨材粒子水性媒介分散液,对该分散液照 射超音波,并测量由式(1)所示之相对于该超音波照 射前之特定粒径0(m)以上之粒子存在量,超音 波照射后之上述0(m)以上之粒子藉由超音波照 射作用所消失之比例(定义为分散率()): =[(V0-Vt)/V0]100(%) (1) (式中,V0为超音波照射前之特定粒径0(m)以上 之粒子存在量(累积容积),Vt为超音波照射后之上 述0(m)以上之粒子存在量(累积容积))。 2.一种玻璃研磨方法,系利用研磨材粒子研磨玻璃 者,其特征为,准备由将被测量对象之研磨材粒子 添加入水性媒介所形成之研磨材粒子水性媒介分 散液,对该分散液照射超音波,并测量由式(1)所示 之相对于该超音波照射前之特定粒径0(m)以上 之粒子存在量,超音波照射后之上述0(m)以上 之粒子藉由超音波照射作用所消失之比例(定义为 分散率()): =[(V0-Vt)/V0]100(%) (1) (式中,V0为超音波照射前之特定粒径0(m)以上 之粒子存在量(累积容积),Vt为超音波照射后之上 述0(m)以上之粒子存在量(累积容积)); 对藉由式(1)之方法所测得之分散率为特定値0 (%)以上之研磨材粒子进行调整、选择或判别; 并利用该特定研磨材粒子进行玻璃研磨。 3.如申请专利范围第2项之玻璃研磨方法,其中,0 为30(%)。 4.一种玻璃研磨用研磨材组成物,系含有研磨材粒 子者,其特征为,该研磨材粒子系 对由将该研磨材粒子添加入水性媒介所形成之研 磨材粒子水性媒介分散液照射超音波,并测量由式 (1)所示之相对于该超音波照射前之特定粒径0( m)以上之粒子存在量,超音波照射后之上述0( m)以上之粒子藉由超音波照射作用所消失之比 例(定义为分散率()): =[(V0-Vt)/V0]100(%) (1) (式中,V0为超音波照射前之特定粒径0(m)以上 之粒子存在量(累积容积),Vt为超音波照射后之上 述0(m)以上之粒子存在量(累积容积));并 将藉由式(1)之方法所测得之分散率为特定値0 (%)以上之研磨材粒子分散于水性媒介中者。 5.如申请专利范围第4项之玻璃研磨用研磨材组成 物,其中,0为30(%)。 6.一种高分散性玻璃研磨用之研磨材粒子,系以含 有氧化铈之稀土类氧化物为主要成份者,其特征为 ,该研磨材中之SO4换算之金属硫酸盐量为0.070(莫耳 /Kg)以下,且该研磨材粒子系 对由将该研磨材粒子添加入水性媒介所形成之研 磨材粒子水性媒介分散液照射超音波,并测量由式 (1)所示之相对于该超音波照射前之特定粒径0( m)以上之粒子存在量,超音波照射后之上述0( m)以上之粒子藉由超音波照射作用所消失之比 例(定义为分散率()): =[(V0-Vt)/V0]100(%) (1) (式中,V0为超音波照射前之特定粒径0(m)以上 之粒子存在量(累积容积),Vt为超音波照射后之上 述0(m)以上之粒子存在量(累积容积));并 藉由式(1)之方法所测得之分散率为特定値0(%) 以上之研磨材粒子。 7.如申请专利范围第6项之高分散性玻璃研磨用之 研磨材粒子,其中,0为30(%)。 8.如申请专利范围第6或7项之研磨材粒子,其中,含 有氟化合物。 9.一种玻璃研磨用研磨材组成物,其特征为,至少含 有水性媒介与申请专利范围第6至8项中任一项之 研磨材粒子。 10.一种玻璃研磨方法,其特征为,使用申请专利范 围第9项之玻璃研磨用研磨材组成物。 |
