发明名称 等离子体反应腔
摘要 本发明公开了一种等离子体反应腔,包括第一极板、第二极板、挡板及固定框。第二极板位于第一极板之上,并且具有多个气体扩散孔。挡板环绕于第二极板边缘,固定框则安装于第二极板与挡板之接合部位的下表面。固定框包括金属本体包覆于熔射涂层之内,且熔射涂层包含绝缘材料。当第二极板与挡板靠合并以固定框固定时,以熔射涂层将金属本体与第二极板隔开。
申请公布号 CN100389225C 申请公布日期 2008.05.21
申请号 CN200510113892.7 申请日期 2005.10.21
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 江坤盛;林志明;邱志勤;范和安;郑有青
分类号 C23C16/513(2006.01);H01L21/205(2006.01) 主分类号 C23C16/513(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种等离子体反应腔,包括:第一极板;第二极板,位于该第一极板之上,具有多个气体扩散孔;挡板,环绕于该第二极板边缘;以及固定框,安装于该第二极板与该挡板的接合部位的下表面,该固定框包括金属本体包覆于熔射涂层之内,其中该熔射涂层包含绝缘材料,当该第二极板与该挡板靠合并以该固定框固定时,该熔射涂层将该金属本体与该第二极板隔开。
地址 中国台湾新竹市