发明名称 |
等离子体反应腔 |
摘要 |
本发明公开了一种等离子体反应腔,包括第一极板、第二极板、挡板及固定框。第二极板位于第一极板之上,并且具有多个气体扩散孔。挡板环绕于第二极板边缘,固定框则安装于第二极板与挡板之接合部位的下表面。固定框包括金属本体包覆于熔射涂层之内,且熔射涂层包含绝缘材料。当第二极板与挡板靠合并以固定框固定时,以熔射涂层将金属本体与第二极板隔开。 |
申请公布号 |
CN100389225C |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
申请号 |
CN200510113892.7 |
申请日期 |
2005.10.21 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
江坤盛;林志明;邱志勤;范和安;郑有青 |
分类号 |
C23C16/513(2006.01);H01L21/205(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/513(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1.一种等离子体反应腔,包括:第一极板;第二极板,位于该第一极板之上,具有多个气体扩散孔;挡板,环绕于该第二极板边缘;以及固定框,安装于该第二极板与该挡板的接合部位的下表面,该固定框包括金属本体包覆于熔射涂层之内,其中该熔射涂层包含绝缘材料,当该第二极板与该挡板靠合并以该固定框固定时,该熔射涂层将该金属本体与该第二极板隔开。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |