| 发明名称 |
Verfahren zur Säuberung einer Vorrichtung zum Herstellen von Dünnfilm-Silizium |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60035648(T2) |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
| 申请号 |
DE2000635648T |
申请日期 |
2000.03.22 |
| 申请人 |
KANEKA CORP. |
发明人 |
NISHIO, HITOSHI;YAMAGISHI, HIDEO;KONDO, MASATAKA |
| 分类号 |
H01L21/20;C23C16/46;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/205;H01L31/18;H01L31/20 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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