发明名称 |
硼硅酸盐玻璃体上制备耐磨抗反射膜的方法和涂膜溶液 |
摘要 |
本发明描述了一种在硼硅酸盐玻璃体上制备耐磨抗反射膜的方法,在该方法中,使用了一种组成如下的涂膜溶液:1~6重量%HCl、0.5~7重量%SiO<SUB>2</SUB>溶胶(固含量)、0.5~5重量%H<SUB>2</SUB>O、85~98重量%易挥发水溶性有机溶剂。适于涂覆的玻璃含有(以氧化物基的重量%计)70~75SiO<SUB>2</SUB>、8~11B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>、5~9Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>、7~12碱金属氧化物、0~10碱土金属氧化物。 |
申请公布号 |
CN101182130A |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
申请号 |
CN200710170128.2 |
申请日期 |
2007.08.31 |
申请人 |
肖特股份有限公司 |
发明人 |
D·特拉普;S·特拉茨基 |
分类号 |
C03C17/23(2006.01);C03C3/091(2006.01) |
主分类号 |
C03C17/23(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
温宏艳;林森 |
主权项 |
1.一种在硼硅酸盐玻璃体上形成附着力强并耐磨的、含多孔SiO2的抗反射膜的方法,其特征在于,通过下列步骤-将含有下列组分70~75 SiO2 8~11 B2O3 5~9 Al2O3 7~12 碱金属氧化物0~10 碱土金属氧化物的待涂膜玻璃体(以氧化物基的重量%计)用涂膜溶液浸润,-该溶液含有1.0~6.0重量%HCl、0.5~7.0重量%SiO2溶胶(固含量)、0.5~5重量%H2O85~98重量%易挥发水溶性有机溶剂以及-干燥并煅烧所得膜层。 |
地址 |
德国美因茨 |