叠层体形成方法以及光电器件的制造方法

摘要

一种叠层体形成方法是，以具有：在基体上边形成中间层的第1工序；和在所述中间层上边形成与所述基体的粘附力比所述中间层小且反射率比所述中间层大的金属层的第2工序，所述第2工序的途中增加所述金属层的形成速度为特征。由此，提供具有良好特性，即使在高温下、潮湿下、或连续长时间使用下等也有优良的反射特性和粘附性的叠层体的形成方法和光电器件的制造方法。

主权项

1.一种叠层体形成方法，其特征在于，具有：在基体上边形成中间层的第1工序；和在所述中间层上边形成与所述基体的粘附力比所述中间层小、且反射率比所述中间层大的金属层的第2工序，其中，在所述第2工序的途中，当所述中间层上边的所述金属层的厚度形成为1nm以上100nm以下时，增加所述金属层的形成速度。