发明名称 |
用金属层涂覆细长的金属元件的设备和方法 |
摘要 |
一种用于控制细长的金属元件(1)上的金属涂层的厚度的设备和方法,其中所述涂层适于通过将元件连续传送过熔融金属的熔池(2)而被涂敷,并且所述元件自熔池沿传送方向(3)沿预定传送路径(x)传送。所述设备包括至少一对电磁擦拭构件,在所述元件(1)的每一侧上包括一个擦拭构件,以通过施加移动磁场从元件上擦除过量的熔融金属,并且各擦拭构件包括擦拭柱(5)。所述设备包括至少一对电磁稳定构件,在所述元件(1)的每一侧上包括一个稳定构件,用于稳定元件相对于预定传送路径(x)的位置,所述稳定构件包括稳定柱(5)。所述元件(1)的同一侧上的擦拭构件和稳定构件被设置成使得擦拭柱(5)和稳定柱(5)重合。 |
申请公布号 |
CN101184861A |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
申请号 |
CN200680018714.9 |
申请日期 |
2006.05.24 |
申请人 |
ABB公司 |
发明人 |
简-埃里克·埃里克森;本特·吕德霍尔姆;柳玉敬;斯特凡·伊斯拉埃尔松·坦佩;戈特·塔尔巴克 |
分类号 |
C23C2/24(2006.01);C23C2/20(2006.01);C23C2/40(2006.01) |
主分类号 |
C23C2/24(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
段斌;张文 |
主权项 |
1.一种用于控制细长的金属元件(1)上的金属涂层的厚度的设备,其中所述涂层适于通过将元件(1)连续传送过熔融金属的熔池(2)而被涂敷,并且所述元件适于自熔池(2)沿传送方向(3)沿预定传送路径(x)传送,并且其中所述设备包括至少一对电磁擦拭构件,在所述元件的每一侧上包括一个所述擦拭构件,以通过向所述元件施加移动磁场从所述元件中擦除过量的熔融金属,各擦拭构件包括擦拭柱(5a、5b),并且其中所述设备包括至少一对电磁稳定构件,在所述元件的每一侧上包括一个稳定构件,用于稳定元件相对于预定传送路径(x)的位置,所述稳定构件包括稳定柱(5a、5b),其特征在于所述擦拭构件具有第一相绕组和第二相绕组(6a、6b、7a、7b),所述元件的同一侧上的所述擦拭构件和所述稳定构件被设置成使得擦拭柱(5a、5b)和稳定柱(5a、5b)重合。 |
地址 |
瑞典韦斯特罗斯 |