发明名称 eletrodo negativo cilìndrico de deposição fìsica de vapor (pvd)
摘要 ELETRODO NEGATIVO CILìNDRICO DE DEPOSIçãO FìSICA DE VAPOR A presente invenção proporciona um eletrodo negativo cilíndrico de deposição física de vapor (PVD) que compreende um material de evaporação cobrindo a superfície circunferencial externa de um substrato cilíndrico, o eletrodo negativo cilíndrico de PVD inclui uma parte de acoplamento dotada de pelo menos qualquer uma forma protuberante e uma forma rebaixada, formada com partes angulares arredondadas na interface entre o substrato e o material de evaporação. De acordo com essa estrutura, desfolhamento ou fissuramento do material de evaporação por parte de urna tensão residual provocada na interface entre o substrato e o material de evaporação por uma diferença de expansão térmica entre os dois pode ser suprimida, e pode-se assegurar também aderência suficiente entre os dois.
申请公布号 BRPI0705011(A) 申请公布日期 2008.05.20
申请号 BR2007PI05011 申请日期 2007.06.29
申请人 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO 发明人 TOSHIAKI TAKAO;TAKAHIRO OKAZAKI;HIROFUMI FUJII
分类号 C23C14/34;H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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