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发明名称
吸附台及基板处理装置
摘要
本发明系抑制成本增多或涂布不良,并改善基板背面之大气循环。在基板处理装置之吸附台3之上面30形成格子状之开放沟34,开放沟34在吸附台3保持着基板90之状态下亦呈大气开放。在以开放沟34所区隔之保持部35的保持面36设有吸附孔37与吸附沟38,并使吸附孔37与吸附沟38连通,吸附沟38在吸附台3保持着基板90之状态下不呈大气开放。再者,使吸附孔37与排气机构连通。在吸附台3保持基板90之际,系从排气机构抽吸空气,藉由吸附孔37与吸附沟38吸附基板90之背面。
申请公布号
TW200822277
申请公布日期
2008.05.16
申请号
TW096124854
申请日期
2007.07.09
申请人
大网板制造股份有限公司
发明人
高木善则;大森雅文;高井武
分类号
H01L21/683(2006.01)
主分类号
H01L21/683(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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