发明名称 线幅测量方法、成像状态检测方法、调整方法、曝光方法及元件制造方法
摘要 本发明系拍摄包含形成于晶圆上之特定间隔的复数条线图案之图案区域影像,依据该摄像结果,算出前述图案区域之图像的对比値(步骤S8),将算出之对比値,依据已知之换算资讯换算成线图案之线幅(步骤S9)。因而,即使不使用SEM等,而使用分解能力低之显微镜,如使用曝光装置之结像式对准感测器等,而拍摄上述图案区域影像,仍可精确测量对准图案之线幅。因此,可以低成本且高通量测量线幅。
申请公布号 TW200821772 申请公布日期 2008.05.16
申请号 TW096136165 申请日期 2007.09.28
申请人 尼康股份有限公司 发明人 宫下和之
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈传岳;郭雨岚
主权项
地址 日本