适于制造绝缘层上覆矽结构之基材表面清洗方法

摘要

提供一种利用于绝缘层上覆矽技术中,清洁基材表面之方法。于一实施例中,此清洁基材表面之方法包含提供一第一基材与一第二基材,其中该第一基材具有一氧化矽层形成于其上,以及定义于其中之一裂面;于该第一基材与该第二基材之一表面,进行一湿式清洁制程;以及将该氧化矽层表面接合于该第二基材之该被清洁过的表面上。