发明名称 |
辐射系统及包含该辐射系统之微影装置 |
摘要 |
本发明揭示一种用于一远紫外线微影系统中之光学感应器装置。该装置包括:一光学感应器,其包含一感应器表面;及一移除机件,其经组态以自该感应器表面移除碎片。因此,可针对微影系统而方便地执行剂量及/或污染物量测。 |
申请公布号 |
TW200821771 |
申请公布日期 |
2008.05.16 |
申请号 |
TW096134960 |
申请日期 |
2007.09.19 |
申请人 |
ASML公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
马登 马瑞司 乔汉娜 威贺默思 凡 赫本;MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;凡丁 叶弗真叶米希 班尼;乔汉纳 克利斯丁 里欧那达 法兰肯;CHRISTIAAN LEONARDUS;欧勒夫 华德玛 佛勒迪米尔 佛利恩斯;WALDEMAR VLADIMIR;德克 珍 威弗瑞德 克朗德;奈尔斯 麦奇尔 德瑞森;华特 安东 索尔 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G01J1/16(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |