具有可提供蚀刻速度均匀分布之阴极的罩幕蚀刻电浆反应器

摘要

一种用于蚀刻一工件(诸如矩形或正方形的罩幕)的电浆反应器,包括:一真空腔室,其具有顶部和侧壁;和一工件支撑底座,其位在一包括阴极的腔室内,其中该阴极具有用于支撑工件的表面,该表面包含多个各个区域,该表面的各个区域由不同电性特性的各个材料形成。区域可以相对于晶圆支撑底座的对称轴同心排列。