含液状添加剂之形成光阻底层膜组成物

摘要

本案之课题系提供一种半导体装置制造之微影术制造过程所使用之,微影术用形成光阻底层膜组成物。本发明之解决手段系,含有树脂(A),液状添加剂(B)及溶剂(C)之半导体装置制造之微影术制造过程所使用之形成光阻底层膜组成物。该液状添加剂(B)系脂肪族聚醚化合物。该液状添加剂(B)为聚醚聚醇,聚环氧丙基醚或该等之组合。其含有,将光阻下层膜形成组成物涂布于半导体基板上,烧成而形成光阻下层膜之步骤;在其下层膜上形成光阻层之步骤;将以光阻下层膜与光阻层所被覆之半导体基板予以曝光之步骤;曝光后予以显影之步骤,的半导体装置之制造方法。