发明名称 奈米结构图案之制造方法
摘要 本发明系有关一种在基板上形成奈米结构图案之方法。其步骤包含提供基板及以功能性材料涂布基板而形成功能性材料层。在功能性材料上涂布至少A聚合物链与B聚合物链之嵌段共聚物以形成共聚物层。使嵌段共聚物乾燥以形成有序奈米区块。移除经乾燥之嵌段共聚物的A聚合物链以形成孔洞,然后再自已移除A聚合物链之处移除功能性材料。
申请公布号 TW200821641 申请公布日期 2008.05.16
申请号 TW096129340 申请日期 2007.08.09
申请人 罗门哈斯财务A/S公司 发明人 贾贵纳萨 罗美齐;劳元乔;米向东
分类号 G02B5/30(2006.01);B82B3/00(2006.01);C08G81/02(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 丹麦