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经营范围
发明名称
半导体元件及其制造方法
摘要
一种半导体元件,其系包含一基材;一闸极结构,位于该基板上;以及一源/汲极区,位于该基材中。其中,该源/汲极区系包含一矽层及一位于该矽层下方之玻璃层,从而可定义出浅接合深度,避免可能的短通道效应。
申请公布号
TW200822178
申请公布日期
2008.05.16
申请号
TW095141397
申请日期
2006.11.08
申请人
茂德科技股份有限公司
发明人
张三荣;杨逸梅
分类号
H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/02(2006.01)
代理机构
代理人
王宗梅
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼
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