发明名称 半导体元件及其制造方法
摘要 一种半导体元件,其系包含一基材;一闸极结构,位于该基板上;以及一源/汲极区,位于该基材中。其中,该源/汲极区系包含一矽层及一位于该矽层下方之玻璃层,从而可定义出浅接合深度,避免可能的短通道效应。
申请公布号 TW200822178 申请公布日期 2008.05.16
申请号 TW095141397 申请日期 2006.11.08
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 张三荣;杨逸梅
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 王宗梅
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼