Niederdruck-Entfernung von Photoresist und Ätzresten,申请号DE200511003376T-传众专利搜索

发明名称	Niederdruck-Entfernung von Photoresist und Ätzresten
摘要
申请公布号	DE112005003376(T5)	申请公布日期	2008.05.15
申请号	DE200511003376T	申请日期	2005.12.02
申请人	TOKYO ELECTRON LTD.	发明人	BALASUBRAMANIAM, VAIDYANATHAN;HATAMURA, YASUNORI;HAGIHARA, MASAAKI;NISHIMURA, EIICHI
分类号	H01L21/461;H01L21/302	主分类号	H01L21/461
代理机构		代理人
主权项
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