发明名称 |
气体流量校准的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种气体流量校准的方法,用于对反应室的供气系统的气体流量进行校验,包括步骤:当供气系统新安装气体流量控制装置MFC时,首先测定系统的固有误差Es,及反应室体积Vc、供气管路体积Vg;MFC用过一段时间后,参照Es、Vc、Vg并考虑反应室与供气管路的温度差异,测定MFC的流量误差Em;然后,将Em的值与限定的容错值比较,当Em的值超过限定的容错值时,系统报警。减少了因温度和容积差异导致的系统误差,通过误差修正,降低系统误差,具有计算精度高,计算速度快,配置方便灵活的特点。主要应用于对半导体加工设备的供气系统的气体流量的校准,也适用于对其它供气系统的校准。 |
申请公布号 |
CN101178327A |
申请公布日期 |
2008.05.14 |
申请号 |
CN200610114417.6 |
申请日期 |
2006.11.09 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
苏晓峰 |
分类号 |
G01F25/00(2006.01);G05D7/06(2006.01);H01L21/00(2006.01);G12B13/00(2006.01) |
主分类号 |
G01F25/00(2006.01) |
代理机构 |
北京凯特来知识产权代理有限公司 |
代理人 |
赵镇勇 |
主权项 |
1.一种气体流量校准的方法,用于对反应室的供气系统的气体流量进行校验,所述供气系统的供气管路上设有气体流量控制装置MFC,其特征在于,包括以下步骤:A、所述供气系统新安装MFC时,首先测定系统的固有误差Es,所述新安装的MFC的流量误差Em=0,测定的方法是:通过新安装MFC的供气管路向反应室供气,测定供气管路与反应室内气体参数的变化,通过理想气体状态方程PV=nRT计算气体的流量Qv;将Qv与MFC的设定流量值Qs比较,得出MFC的误差<math><mrow><mi>E</mi><mo>=</mo><mfrac><mrow><msub><mi>Q</mi><mi>v</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>Q</mi><mi>s</mi></msub></mrow><msub><mi>Q</mi><mi>s</mi></msub></mfrac><mo>;</mo></mrow></math> 由公式E=Es+Em 可求系统的固有误差Es=E;B、MFC用过一段时间后,测定MFC的流量误差Em,测定的方法是:通过装有需测定的MFC的供气管路向反应室供气,测定供气管路与反应室内气体参数的变化,通过理想气体状态方程PV=nRT计算气体的流量Qv;将Qv与MFC的设定流量值Qs比较,得出MFC的误差<math><mrow><mi>E</mi><mo>=</mo><mfrac><mrow><msub><mi>Q</mi><mi>v</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>Q</mi><mi>s</mi></msub></mrow><msub><mi>Q</mi><mi>s</mi></msub></mfrac><mo>;</mo></mrow></math> 由公式E=Es+Em 可求MFC的流量误差Em=E-Es;C、将Em的值与限定的容错值比较,当Em的值超过限定的容错值时,系统报警。 |
地址 |
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |