| 发明名称 | 涡流校正方法与磁共振成像设备 | ||
| 摘要 | 为了在有限的输出范围内进行最佳的涡流校正，计算用于对梯度磁场进行涡流校正的一个校正值(501-505)；如果计算的校正值不超过预定的上限值，则使用这个计算的值对于梯度磁场进行校正(507、521、525)；如果计算的校正值超过预定的上限值，则使用不大于这个上限值的多个候选校正值模拟受涡流影响的多个梯度磁场(507-517)，并使用能够获得相对来说最佳的梯度磁场的候选校正值对梯度磁场进行校正(519-525)。 | ||
| 申请公布号 | CN100387189C | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200410003814.7 | 申请日期 | 2004.02.06 |
| 申请人 | GE医疗系统环球技术有限公司 | 发明人 | 植竹望 |
| 分类号 | A61B5/055(2006.01);G01R33/38(2006.01) | 主分类号 | A61B5/055(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 栾本生;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种涡流校正方法，包括：计算用于对梯度磁场进行涡流校正的一个校正值；如果计算的校正值不超过预定的上限值，则使用这个计算的值对于梯度磁场进行校正；如果计算的校正值超过预定的上限值，则使用不大于这个上限值的多个候选校正值模似受涡流影响的多个梯度磁场，并使用能够获得相对来说最佳的梯度磁场的候选校正值对梯度磁场进行校正。 | ||
| 地址 | 美国威斯康星州 | ||