| 发明名称 | 曝光装置及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。 | ||
| 申请公布号 | CN101180707A | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN200680017294.2 | 申请日期 | 2006.07.11 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 水谷刚之;奥村正彦;河野博高 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：第1载台；第2载台；维护装置，其进行所述第2载台的维护；及控制装置，用于在载置于所述第1载台的基板的曝光处理中通过所述维护装置执行所述维护。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||